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Examen Electrónica y Tecnología de Computadores: Dispositivos Electrónicos I, 1º Ing. Tele, Apuntes de Administración de Empresas

Este documento contiene un examen universitario sobre temas básicos de electrónica, específicamente sobre semiconductores, diodos, transistores mosfet y circuitos eléctricos. El examen incluye preguntas relacionadas con la calculación de concentraciones de electrones y huecos, posición del nivel de fermi, transferencia de tensión de diodos, diseño de transistores mosfet y valores de resistencias en circuitos eléctricos.

Tipo: Apuntes

2012/2013

Subido el 19/07/2013

singul
singul 🇪🇸

6 documentos

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Departamento de Electrónica y Tecnología
de Computadores
Dispositivos Electrónicos I
1oIngeniería de Telecomunicación
Examen: 15 de junio de 2007
1. Sea una muestra semiconductora de Si dopada con impurezas de boro, NA= 1017cm3;y de
fósforo, ND= 2 1017 cm3:(Datos: ni= 1:45 1010cm3;kT = 25:8meV ;T= 300K;
Eg= 1:12eV ;NC= 2:81019cm3;NV= 1:04 1019cm3. En caso necesario, suponer que
el nivel de Fermi intrínseco (Ei)se encuentra situado en la mitad de la banda prohibida)
(a) Calcular la concentración de electrones y huecos en equilibrio rmico así como la posición
del nivel de Fermi utilizando la estadística de Maxwell-Boltzmann. (0.5 puntos)
(b) ¿Cuál es la probabilidad de encontrar un electrón con energía igual a ECsegún la es-
tadística de Fermi-Dirac? (0.5 puntos)
(c) Si se ilumina el semiconductor de forma que se generan 1012 pares electrón-hueco por
cm3;se pide calcular las nuevas concentraciones de electrones y huecos y la posición de
los pseudoniveles de Fermi. (0.5 puntos)
(d) Dibujar de forma esquemática el diagrama de bandas de la estructura incluyendo la
posición del nivel de Fermi intrínseco y del nivel de Fermi obtenido en el apartado (a) y
de los pseudoniveles calculados en (c). (0.5 puntos)
2. Sea el siguiente circuito:
Donde los diodos DZ1 y DZ3 son diodos ner y los diodos DL2, DL4 y DL5 son diodos LED
con V=2 V.
(a) Representar la curva de transferencia (Vo frente a Vi). Dejar VZcomo parámetro.(0.5
puntos)
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de Computadores

Dispositivos ElectrÛnicos I

1 o^ IngenierÌa de TelecomunicaciÛn

Examen: 15 de junio de 2007

  1. Sea una muestra semiconductora de Si dopada con impurezas de boro, NA = 10^17 cm^3 ; y de fÛsforo, ND = 2  1017 cm^3 : (Datos: ni = 1: 45  1010 cm^3 ; kT = 25: 8 meV ; T = 300K; Eg = 1: 12 eV ; NC = 2: 8  1019 cm^3 ; NV = 1: 04  1019 cm^3. En caso necesario, suponer que el nivel de Fermi intrÌnseco (Ei) se encuentra situado en la mitad de la banda prohibida)

(a) Calcular la concentraciÛn de electrones y huecos en equilibrio tÈrmico asÌ como la posiciÛn del nivel de Fermi utilizando la estadÌstica de Maxwell-Boltzmann. (0.5 puntos) (b) øCu·l es la probabilidad de encontrar un electrÛn con energÌa igual a EC seg˙n la es- tadÌstica de Fermi-Dirac? (0.5 puntos) (c) Si se ilumina el semiconductor de forma que se generan 1012 pares electrÛn-hueco por cm^3 ; se pide calcular las nuevas concentraciones de electrones y huecos y la posiciÛn de los pseudoniveles de Fermi. (0.5 puntos) (d) Dibujar de forma esquem·tica el diagrama de bandas de la estructura incluyendo la posiciÛn del nivel de Fermi intrÌnseco y del nivel de Fermi obtenido en el apartado (a) y de los pseudoniveles calculados en (c). (0.5 puntos)

  1. Sea el siguiente circuito:

Donde los diodos DZ1 y DZ3 son diodos ZÈner y los diodos DL2, DL4 y DL5 son diodos LED con V = 2 V.

(a) Representar la curva de transferencia (Vo frente a Vi). Dejar VZ como par·metro.(0. puntos)

de Computadores

(b) øQuÈ valor m·ximo puede tener la tensiÛn de ruptura VZ de los diodos ZÈner para conseguir que la corriente que atraviesa la resistencia RL no supere los 1.5 mA? (0. puntos) (c) Suponiendo que Vi = 10 V y que se usan los diodos ZÈner del apartado anterior, øquÈ incremento de tensiÛn Vo se produce en la salida como consecuencia de un cambio de tensiÛn Vi en la tensiÛn de entrada Vi? Datos: el ZÈner conduciendo en inversa se comporta en pequeÒa seÒal como una resistencia de valor rZ = 100 ; VT = kTq = 25: 8 mV (1 punto)

  1. Se quiere realizar un transistor MOSFET de canal N de forma que su tensiÛn umbral sea igual a VT = 1 V.

(a) Si el semiconductor se ha dopado con NA = 10^16 cm^3 impurezas aceptadoras, determinar quÈ valor debe tener la funciÛn trabajo del metal. Datos: AÖnidad electrÛnica del silicio,p qSi = 4: 05 eV; tensiÛn umbral VT = VF B  2 F  2 F , donde =

p 2 "SiqNA Cox y^ Cox^ = 50nF/cm

(^2) ; constantes dielÈctricas, Si = 11: 9 "o, "o = 8: 85 x 10 ^14 F/cm; kT = 25: 8 meV;. ni = 1: 45 x 1010 cm^3 ; q = 1: 6 x 10 ^19 C; Eg = 1: 1 eV; NC = 2: 8  1019 cm^3 ; NV = 1: 04  1019 cm^3 (1 punto) (b) Con el transistor anterior se realiza el siguiente circuito:

Dar valores a los componentes del circuito que sean necesarios para lograr que el transistor trabaje en continua bajo las siguientes condiciones: tensiÛn en el drenador VD = 5 V, VDS = 3 V e IDS = 1 mA. Adem·s, la corriente que atraviesa la resistencia RG1 debe ser 50 A. Datos: = 400A/V^2. (0.5 puntos) (c) Manteniedo el anterior circuito, excepto la resistencia RG2, øcu·l es el rango de valores que puede tomar RG2 de forma que el transistor contin˙e en saturaciÛn? Tenga en cuenta que, debido a la forma en la que se ha implementado la fuente de corriente, Èsta