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Asignatura: Química, Profesor: , Carrera: Ingeniería Biomédica, Universidad: UPM
Tipo: Apuntes
1 / 2
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He^ Ne^ Ar Kr^ Xe Rn
1
(kJ/mol)
2
HeNe
Muy bajos
(Cero o Positivas)
2
6
NeArKrXe
Niveles de energía de los OM
π
π
*y
σ
z
σ
2
s
σ
2 s
∗
2p
z 2s
2p
x^
2p
y
σ
z
π
x^
π
y
π
x
π
y
2p
x
2s
2p
z^
2p
y
TOM, O.E. = 0
En c.n. los elementos son
monoatómicos, gases,
incoloros e inodoros
σ
1s σ
1s
∗
OM
1s OA
1s OA
En estado condensado
sólo interacc. de Van der Waals
(London)
Muy débiles. Aumentan al descender en el grupo
(aumenta Ma y polarizabilidad)(aumenta Ma y polarizabilidad)
Al descender en el grupo aumenta el Peb
T ebull (
o
Elemento
(facilidad para condensar)
HeNeArKrXe
Reactividad de los Gases Nobles
2
Xe
+
(PtF
6
Ar, Kr, Xe
(menores I y n
2
(g) +
PtF
6
(g)
2
+
(PtF
6
(s)
O
Xe
Compuestos
moleculares
con
y
χ
(He y Ne carecen de orbitales d)
08/02/
2
Compuestos de Xe
Xe
(g)
2
(g)
2
(g)
XeF
2
(s)
MOLÉCULA LINEAL
XeF
4
(s)
PLANO-CUADRADA
XeF
OCTAÉDRICA
2
(g)
XeF
6
(s)
OCTAÉDRICA DISTORSIONADA
XeF
X
Sólidos muy reactivosoxidantes fuertes
o
(XeF
2
/Xe)=2,64 V)
buenos agentes fluorantes (XeF
2
comercial)
Bases de Lewis
No se obtienen por reacción directa. Hidrólisis
XeF
6
2
XeO
3
XeF
6
2
XeOF
4
Gas naturallicuefacción
Atmósfera 0.0005%Minerales radioactivosGas natural
He
licuefacción
Gas natural
Destilación fraccionada
del aire
Atmósfera 1%
NeArKrXe
Radiactivo
RnRn
K
→
β
Ar
APLICACIONES
He
Muy ligeroNo inflamable
Globos, dirigibles
Con O
2
Aire artificial (buceo)
Ne
Luces de neónAtmósfera inerte
Ar
Atmósfera inerte (soldadura)FluorescentesLámparas de incandescencia
Criogenia
Atmósfera inerte;
Aislante térmico
Kr
Lámparas de incandescencia
Xe
FluorescentesLámparasFlash electrónico
XeF
x
Agentes fluorantes
2
, y si se conocen los iones He
2
?
3
y XeOF
4
.
(E
o
(XeF
2
/Xe)=2,64 V), podemos decir que será buen agente oxidante o reductor?.
Justifique su afirmación e indique la reacción que tendrá lugar cuandoreacciona con HCl
(Eº Cl
/Cl 2
-^
= 1,36 V). ¿Qué ocurriría si se hace
reaccionar con azufre?
Entregar en clase el martes 14 de febrero